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一种进气装置及化学气相沉积设备制造方法及图纸
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下载一种进气装置及化学气相沉积设备的技术资料
文档序号:29480276
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本公开提供了一种进气装置,该进气装置包括:送气结构、缓冲气室、调节装置、出气板、气流挡板和外壳;送气结构与外壳相连接;出气板与外壳相连接,形成缓冲气室;气流挡板位于缓冲气室内,气流挡板的中心与送气结构的中心重合;气流挡板与调节装置相连接;调...
该专利属于中国科学院半导体研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院半导体研究所授权不得商用。
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