下载等离子体处理装置和等离子体处理方法的技术资料

文档序号:29421487

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例示的实施方式的等离子体处理装置包括处理容器、工作台、上部电极、导入部和波导部。工作台设置于处理容器内。上部电极隔着处理容器内的空间设置于工作台的上方。导入部是高频的导入部。高频是VHF波或者UHF波。导入部设置于空间的横向端部,绕着处理容...
该专利属于东京毅力科创株式会社;国立大学法人东北大学所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社;国立大学法人东北大学授权不得商用。

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