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本发明涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种气压缸保护结构及化学机械研磨装置。所述气压缸保护结构包括：第一基座；第一套筒，采用化学惰性材料制成，固定于所述第一基座上，所述第一套筒用于容纳气压缸，所述气压缸能够沿所述第一套筒的轴线方向升降运动；...
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