温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了面曝光光斑光强匀化方法及其应用，匀化方法包括以下步骤：S1、在面曝光切片分层软件中对stl模型进行切片处理获得切片图像，并对切片图像进行灰度处理，生成二值灰度图像；S2、生成高斯补偿图像，获得参数可调的高斯晕影，所述参数包括高斯...
该专利属于中国工程物理研究院机械制造工艺研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国工程物理研究院机械制造工艺研究所授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。