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本发明公开了一种应用于5G陶瓷基板的通孔铜填充电镀配方及电镀流程,该电镀配方包括以下原料组份:甲基磺酸铜200‑240g/L、铜盐60‑90g/L、甲基磺酸30‑50g/L、甲醛20g‑30g/L、烷基磺酸盐10‑15g/L、HCl0.04...该专利属于深圳市创智成功科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过深圳市创智成功科技有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种应用于5G陶瓷基板的通孔铜填充电镀配方及电镀流程,该电镀配方包括以下原料组份:甲基磺酸铜200‑240g/L、铜盐60‑90g/L、甲基磺酸30‑50g/L、甲醛20g‑30g/L、烷基磺酸盐10‑15g/L、HCl0.04...