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一种化学机械抛光装置，包括：抛光垫、承载头、修整器、传感器组件和控制器；所述抛光垫固定于耦接至第一驱动组件的抛光盘上；所述承载头耦接至第二驱动组件，用于将基板抵压于所述抛光垫上进行抛光；所述修整器耦接至第三驱动组件，用于在抛光过程中对所述抛...
该专利属于清华大学;华海清科股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过清华大学;华海清科股份有限公司授权不得商用。

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