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本揭露提供一种离子植入机毒性气体输送系统及其输送方法。离子植入系统包括离子植入机、掺杂剂源气体供应系统以及监控系统。离子植入机位于机壳内，且包括离子源单元。掺杂剂源气体供应系统包括位于气体机壳外的第一及第二掺杂剂源气体储存缸，配置为向离子源...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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