专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
意法半导体股份有限公司
>
具有在浅沟槽下的深插塞的集成设备制造技术
>技术资料下载
下载具有在浅沟槽下的深插塞的集成设备的技术资料
文档序号:28945901
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本公开的各实施例涉及具有在浅沟槽下的深插塞的集成设备。集成设备包括深插塞。深插塞由深沟槽形成,深沟槽从浅沟槽隔离的浅表面在半导体主体中延伸。沟槽接触件通过浅沟槽,在浅沟槽的浅表面处与深沟槽的导电填料接触。系统包括至少一个具有深插塞的集成设备...
该专利属于意法半导体股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过意法半导体股份有限公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。