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公开了用于增加光刻系统的焦深的系统、方法和计算机程序。在一个方面，一种方法包括提供光谱、掩模图案和光瞳设计，光谱、掩模图案和光瞳设计一起被配置成为光刻系统提供焦深。该方法还包括迭代地改变光谱和掩模图案中的辅助特征以提供增加焦深的经修改的光谱...
该专利属于ASML荷兰有限公司;西默有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司;西默有限公司授权不得商用。

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