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本发明涉及一种修正氧化孔径的方法，氧化孔未经修正直接氧化后在某一晶面方向的俯视图呈类等腰三角形，所述方法包括：在侧向氧化之前，对圆形台面结构的晶面快速氧化方向上的侧壁进行镀膜、沉积或保留原来外延材料形成扩散障碍层，补偿修正侧壁各方向氧化速率...
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