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本发明提供了一种电迁移测试结构及电迁移测试方法,所述电迁移测试结构包括:待测金属互连结构;第一感测电极,与所述待测金属互连结构的一端电性连接;第二感测电极,与所述待测金属互连结构的另一端电性连接;至少一个第三感测电极,至少与所述待测金属互连...该专利属于武汉新芯集成电路制造有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过武汉新芯集成电路制造有限公司授权不得商用。
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本发明提供了一种电迁移测试结构及电迁移测试方法,所述电迁移测试结构包括:待测金属互连结构;第一感测电极,与所述待测金属互连结构的一端电性连接;第二感测电极,与所述待测金属互连结构的另一端电性连接;至少一个第三感测电极,至少与所述待测金属互连...