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等离子体处理装置制造方法及图纸
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下载等离子体处理装置的技术资料
文档序号:28628562
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本发明涉及等离子体处理装置。提供能够缩短在更换消耗构件时直到工艺稳定化为止的时间的等离子体处理装置。等离子体处理装置具备:载置台,其用于载置基板;腔室,其收纳所述载置台;气体供给部,其向所述腔室内供给处理气体;等离子体生成部,其在所述腔室内...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
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