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本发明实施例提供一种晶圆曝光修正方法及系统与存储介质。一种晶圆曝光修正方法，包括：获取曝光剂量分布图，曝光剂量分布图用于表征每一曝光单元与初始曝光剂量对应的曝光剂量修正系数；曝光处理步骤，基于曝光剂量修正系数对初始曝光剂量进行修正，获取修正...
该专利属于长鑫存储技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过长鑫存储技术有限公司授权不得商用。

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