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本实用新型提供一种背照式图像传感器基板，其通过在金属材料层上形成第一氮化层，并对第一氮化层和金属材料层同时执行第一干法刻蚀工艺，以在刻蚀金属材料层的过程中轰击第一氮化层，以使第一氮化层中的氮原子或氮离子逸出。逸出的氮原子或氮离子在形成金属栅...
该专利属于武汉新芯集成电路制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉新芯集成电路制造有限公司授权不得商用。

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