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本发明公开了一种用于半导体加工设备的炉门结构,包括炉体本体、炉门,炉门上设置电极结构,电极结构包括电极柱、电极主体和绝缘材料,电极柱与电极主体连接,绝缘材料覆盖电极柱侧面;电极柱的一端与电极主体连接;电极柱另一端裸露,扩大接触面积;炉体本体...该专利属于深圳市拉普拉斯能源技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过深圳市拉普拉斯能源技术有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种用于半导体加工设备的炉门结构,包括炉体本体、炉门,炉门上设置电极结构,电极结构包括电极柱、电极主体和绝缘材料,电极柱与电极主体连接,绝缘材料覆盖电极柱侧面;电极柱的一端与电极主体连接;电极柱另一端裸露,扩大接触面积;炉体本体...