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本文描述的实施方式涉及形成光学装置结构的方法。方法的一个实施方式包括以下步骤：相对于基板的表面的表面法线以离子角度将基板暴露于离子，以形成复数个深度的初始深度。图案化掩模设置在基板上方，并且包括两个或更多个凸起，两个或更多个凸起限定基板或设...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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