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提供了用于处理工件的系统和方法。在一个实施例中，方法包括当工件在第一温度时，将工件暴露于第一气体混合物以进行掺杂的硅酸盐玻璃刻蚀工艺。第一气体混合物可包括氢氟酸(HF)蒸汽。掺杂的硅酸盐玻璃刻蚀工艺以第一刻蚀速率至少部分去除掺杂的硅酸盐玻璃...该专利属于玛特森技术公司;北京屹唐半导体科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过玛特森技术公司;北京屹唐半导体科技股份有限公司授权不得商用。