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纳米线的选择性蚀刻制造技术
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文档序号:28434352
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提供了一种在堆叠件中相对于第二材料层而选择性蚀刻第一材料层的方法。相对于所述第二材料层部分地蚀刻所述第一材料层。在所述堆叠件上选择性沉积沉积层,其中所述沉积层的覆盖在所述第二材料层上的部分比覆盖在所述第一材料层上的部分厚。所述选择性沉积包含...
该专利属于朗姆研究公司所有,仅供学习研究参考,未经过朗姆研究公司授权不得商用。
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