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一种有源图案结构，包括：下有源图案，其在与衬底的上表面基本垂直的竖直方向上从衬底的上表面突出；缓冲结构，其位于下有源图案上，缓冲结构的至少一部分可以包括氧化铝硅；以及上有源图案，其位于缓冲结构上。...
该专利属于三星电子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三星电子株式会社授权不得商用。

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