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本发明提供一种气体供给方法和基片处理装置。气体供给方法具有：在要处理基片时，关闭第二阀，并打开第一阀，对位于气体流量控制装置的二次侧的气体供给配管、分支配管和气体分流比控制单元供给气体的步骤；用压力传感器来检测气体流量控制装置的二次侧的气体...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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