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提供了用于处理工件的系统和方法。在一个实施例中，方法包括将工件放置在处理腔室中的工件支撑体上。工件具有至少一个材料层和其上的至少一种结构。该方法包括允许工艺气体进入等离子体腔室中，由工艺气体产生一种或多种物质，并且过滤所述一种或多种物质以产...该专利属于玛特森技术公司;北京屹唐半导体科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过玛特森技术公司;北京屹唐半导体科技股份有限公司授权不得商用。