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湿法刻蚀基台及湿法制程化学台制造技术
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文档序号:28298725
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本发明提供一种湿法刻蚀基台及湿法制程化学台,所述湿法刻蚀基台包括反应腔室、管路组件及静电导流件,所述管路组件包括刻蚀管及清洗管,所述刻蚀管用于向所述反应腔室通入刻蚀液;所述清洗管用于向所述反应腔室通入清洗液;所述静电导流件贴附于所述刻蚀管和...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。
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