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本申请实施例公开了一种光学关键尺寸OCD测量设备的校准方法，所述方法包括：提供待测样品，所述待测样品具有暴露的待测量层；通过OCD测量设备对所述待测样品的待测量层进行测量，得到OCD测量数据；从校准数据库中确定与所述待测样品的待测量层对应的...
该专利属于长江存储科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过长江存储科技有限责任公司授权不得商用。

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