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载置台和基片处理装置制造方法及图纸
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下载载置台和基片处理装置的技术资料
文档序号:28053298
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本发明载置台包括:基片载置部件,其具有载置被处理基片的载置面;支承基片载置部件的支承部件;致冷剂流路,其在支承部件的内部沿载置面形成,在与配置于载置面侧的顶面相反一侧的底面设置有致冷剂的导入口;以及隔热部件,其至少具有覆盖顶面中的与导入口相...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
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