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本发明提供一种对半导体制造中的晶圆进行监控的方法和掩膜版。所述方法包括：获取待监控的半导体工艺及其设计规则；根据所述设计规则设计监控图形，所述监控图形包括产品晶圆上对应于所述半导体工艺的关键图形；制作所述产品晶圆的掩膜版，其中，在制作所述掩...
该专利属于无锡华润上华科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡华润上华科技有限公司授权不得商用。

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