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一种用于测量衬底上的多个对准标记中的每一个对准标记的位置的设备，包括：照射系统，配置成将来自辐射源的辐射束引导到所述衬底上的多个对准标记上；投影系统，配置成投影来自所述衬底的多个对准标记的图像，所述多个对准标记的图像是由所述辐射束从所述多个...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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