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本发明提供了一种分裂栅闪存单元，包括：绝缘体上半导体衬底，包括由下至上依次堆叠的第一半导体层、绝缘埋层及第二半导体层；浅沟槽隔离结构，从所述第二半导体层向下延伸至所述第一半导体层中，所述浅沟槽隔离结构限定出第一区域和第二区域；两个栅极结构，...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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