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本发明提供一种硅片处理设备。硅片处理设备包括反应槽、电磁控制器和搅拌加热转子；电磁控制器设置于反应槽外侧，搅拌加热转子设置于反应槽内，搅拌加热转子的位置对应电磁控制器设置，以通过电磁控制器控制搅拌加热转子；搅拌加热转子包括搅拌部和加热部，搅...该专利属于西安奕斯伟硅片技术有限公司;西安奕斯伟材料技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过西安奕斯伟硅片技术有限公司;西安奕斯伟材料技术有限公司授权不得商用。