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提供了一种用于对工件进行刻蚀去除工艺的装置，系统和方法。该方法可包括使用等离子体源在等离子体腔室中由沉积工艺气体产生等离子体，以在高纵横比结构的某些层上沉积钝化层。该方法可包括使用等离子体源在等离子体腔室中由刻蚀工艺气体产生等离子体，以从高...该专利属于玛特森技术公司;北京屹唐半导体科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过玛特森技术公司;北京屹唐半导体科技股份有限公司授权不得商用。