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本发明实施例提供一种产生集成电路的掩模数据准备方法。根据本发明的一些实施例，一种产生集成电路的方法包含：由处理器接收第一IC设计布局；由所述处理器用第一差异区域替换所述第一IC设计布局中的特定区域；由所述处理器对所述第一差异区域与所述第一I...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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