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本发明提供一种双向镀膜磁控溅射方法，其可以提高镜像靶磁控溅射方法镀膜效率，同时提升有效产能；其在第一镜像阴极靶材、第二镜像阴极靶材之间的溅射粒子运动的两个方向上，都分别设置成像位置，基于本发明的镀膜设备，可以同时在两个方向对两个基材进行镀膜...
该专利属于无锡爱尔华光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡爱尔华光电科技有限公司授权不得商用。

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