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本发明公开了一种用于在基板上制造电极的制造方法，包括：光刻步骤，在该光刻步骤中，利用光刻技术在所述基板上形成所述电极的图案；预处理步骤，在该预处理步骤中，对所述基板进行清洁或刻蚀，并且对用于磁控溅射的靶材进行清洁；镀膜步骤，在该镀膜步骤中，...
该专利属于广东广纳芯科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过广东广纳芯科技有限公司授权不得商用。

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