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一种垂直非易失性存储器件包括：堆叠体，其包括在堆叠方向上堆叠的栅极图案和层间绝缘图案，堆叠体在栅极图案中和在层间绝缘图案中具有在堆叠方向上延伸的贯通孔；半导体柱，其在贯通孔中并在堆叠方向上延伸；数据存储结构，其在栅极图案与贯通孔中的半导体柱...
该专利属于三星电子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三星电子株式会社授权不得商用。

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