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本发明提供一种基板处理方法和基板处理装置，能够抑制处理液的消耗量并且提高液处理的面内均匀性。基板处理方法包括以下工序：基板升温工序，将基板进行加热来使所述基板的温度上升；液膜形成工序，在所述基板升温工序之后，将所述基板进行加热，并且一边使所...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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