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本发明涉及半导体技术领域。一种DCB覆铜基板制备方法,包括如下步骤:步骤一,真空扩散焊:将清洗后的金属薄片以及铜片叠放在一起,真空条件下进行扩散焊,形成金属薄片与铜片焊接相连的组合体;步骤二,组合体表面清洗;步骤三,干法氧化:在氮气保护的弱...该专利属于江苏富乐德半导体科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过江苏富乐德半导体科技有限公司授权不得商用。
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本发明涉及半导体技术领域。一种DCB覆铜基板制备方法,包括如下步骤:步骤一,真空扩散焊:将清洗后的金属薄片以及铜片叠放在一起,真空条件下进行扩散焊,形成金属薄片与铜片焊接相连的组合体;步骤二,组合体表面清洗;步骤三,干法氧化:在氮气保护的弱...