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半导体存储装置制造方法及图纸
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文档序号:27748309
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实施方式提供一种提高沟道形成区域的载流子迁移率的半导体存储装置。实施方式的半导体存储装置具备:单结晶半导体基板;基底层,设于单结晶半导体基板上;层叠体,包括交替地层叠在基底层上的导电层和绝缘层和基底层;单结晶半导体层,沿与单结晶半导体基板的...
该专利属于铠侠股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过铠侠股份有限公司授权不得商用。
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