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衬底的干涉图形化。可以产生包括干涉条纹的干涉图形来照射衬底，衬底上被所述干涉图形实际照射的区域可以被限制，被照射区域可以沿和所述干涉条纹相交的方向横过所述衬底来位移，并且无论所述被照射区域的位移如何，可以维持所述干涉图形相对于所述衬底的基本...
该专利属于英特尔公司所有，仅供学习研究参考，未经过英特尔公司授权不得商用。

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