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图案形成方法以及半导体器件的制造方法技术
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文档序号:2751520
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一种图案的形成方法,其包括:在被加工膜上形成感光性树脂膜;通过涂布法在上述感光性树脂膜上形成用于保护上述感光性树脂膜的保护膜;通过浸渍液对上述感光性树脂膜的部分区域选择性地进行液浸曝光,将上述浸渍液提供到上述感光性树脂膜上;在形成上述保护膜...
该专利属于株式会社东芝所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社东芝授权不得商用。
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