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存储器元件及其制造方法技术
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文档序号:27466265
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一种存储器元件及其制造方法,存储器元件包括堆叠结构、柱、停止层以及接触插塞。所述堆叠结构,包括多个导体层。所述柱穿过所述堆叠结构。所述柱包括多个串联的存储单元,所述多个串联的存储单元在所述柱位置布局图案中位于所述柱与所述导体层的多个交叉点处...
该专利属于旺宏电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过旺宏电子股份有限公司授权不得商用。
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