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公开了一种用于提供投影辐射束的辐射系统。所述辐射系统包括：极紫外源（３），所述极紫外源（３）用于提供极紫外辐射（２）；以及污染物阻挡件（４），所述污染物阻挡件（４）包括多个紧密排布的箔片板（５），所述箔片板（５）用于俘获来自辐射源的污染物材...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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