温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种光刻设备，所述光刻设备包括编码器型传感器系统，所述编码器型传感器系统配置用于测量光刻设备的衬底台相对于参考结构的位置。所述编码器型传感器系统包括编码器传感器头和编码器传感器目标，而所述光刻设备包括用于容纳所述编码器传感器目标...
该专利属于ＡＳＭＬ荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ＡＳＭＬ荷兰有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。