具有编码器型位置传感器系统的光刻设备技术方案

本发明专利技术公开了一种光刻设备，所述光刻设备包括编码器型传感器系统，所述编码器型传感器系统配置用于测量光刻设备的衬底台相对于参考结构的位置。所述编码器型传感器系统包括编码器传感器头和编码器传感器目标，而所述光刻设备包括用于容纳所述编码器传感器目标的凹陷。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光刻设备以及一种编码器型位置传感器系统。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上(通常到所述衬底的目标部分上)的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(ic)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版(retide)的图案形成装置用于 生成在所述IC的单层上待形成的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例 如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、 一个或多个管芯) 上。典型地，经由成像将所述图案转移到在所述衬底上设置的辐射敏感材 料(抗蚀剂)层上。通常，单独的衬底将包含连续形成图案的相邻目标部 分的网络。公知的光刻设备包括所谓步进机，在所述步进机中，通过将 全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓扫 描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向("扫描"方向)扫描所 述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向扫描所述衬底来辐射每一 个目标部分。还可以通过将所述图案压印(imprinting)到所述衬底上，将 所述图案从所述图案形成装置转移到所述衬底上。在光刻设备中可以利用编码器型传感器系统测量衬底台相对于参考 结构(例如本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻设备，所述光刻设备包括：　照射系统，所述照射系统被配置用于调节辐射束；　支撑件，所述支撑件被构造用于保持图案形成装置，所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束，以形成图案化的辐射束；　衬底台，所述衬底台被构造用于保持衬底；　投影系统，所述投影系统被配置用于将所述图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上；以及　编码器型传感器系统，所述编码器型传感器系统被配置用于测量衬底台相对于参考结构的位置，所述编码器型传感器系统包括编码器传感器头和编码器传感器目标，且所述光刻设备包括用于容纳所述编码器传感器目标的凹陷。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：皮特保罗斯汀贾尔特，威尔赫尔姆斯约瑟夫斯鲍克斯，艾米爱尔尤泽夫梅勒妮尤森，埃瑞克罗埃劳夫鲁普斯卓，恩格尔伯塔斯安东尼尔斯弗朗西斯克斯范德帕斯克，鲁德安东尼尔斯卡萨丽娜玛丽亚比伦斯，埃尔伯塔斯亚得里亚内斯史密特斯，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]