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用于被氧化的污染材料的化学还原或污染材料的氧化物还原方法及其调节系统技术方案
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下载用于被氧化的污染材料的化学还原或污染材料的氧化物还原方法及其调节系统的技术资料
文档序号:2743107
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设备内的氧化物被还原,所述设备具有腔体,所述腔体含有污染材料和氧化物,所述氧化物是污染材料的氧化物。在所述方法中,至少在腔体的一部分中提供含氢的气体。在腔体内形成预定的最小局部氢气压力和预定的最大局部氧化剂压力。在所述腔体内,保持温度以使得...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。
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