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处理方法包括以蚀刻剂蚀刻金属氮化物层。蚀刻剂可例如为WCl5、WOCl4或TaCl5。也公开了改善蚀刻工艺选择性的方法。善蚀刻工艺选择性的方法。善蚀刻工艺选择性的方法。
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该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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