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提供一种用于产生光栅结构的光刻系统，这种光刻系统具有多列成像系统，多列成像系统位于能够在交叉扫描方向中移动的桥上；掩模，具有位于成像系统的物平面中的具有固定空间频率的光栅图案；多线对准标记，与光栅图案对准并且具有固定空间频率；工作台，配置成...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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