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本公开的一形态的溅射装置具有：处理容器，其收容基板；狭缝板，其在所述处理容器内的所述基板的上方与所述基板的表面平行地配置，并具有在板厚方向上贯通的开口部；以及受热用板，其在相对于所述狭缝板倾斜设置的靶材的下方载置于所述狭缝板之上，由耐热性比...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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