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本发明公开了一种等离子体设备、等离子体设备的腔体及其中心圈结构，所述中心圈结构包括圆环本体和挡板；所述圆环本体的内侧壁上具有沿着所述内侧壁一圈分布的拼接缝；所述挡板贴设在所述圆环本体的内侧壁上且遮盖住所述拼接缝。本发明通过在等离子体设备中腔...
该专利属于上海先进半导体制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海先进半导体制造股份有限公司授权不得商用。

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