下载承载装置及半导体工艺设备的技术资料

文档序号:27142573

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本申请实施例提供了一种承载装置及半导体工艺设备。该承载装置包括:基座及匀热机构;基座包括匀热盘和加热盘,匀热盘设置于加热盘上,加热盘用于加热匀热盘;匀热盘具有一上表面,上表面用于承载待加工工件,并且上表面的指定区域内开设有凹槽;匀热机构包括...
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