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本发明涉及一种化学气相沉积CVD粉料前驱体输送装置，包括储粉罐、送气管道、低温加热装置。储粉罐内设置有螺旋送粉器，马达设置在储粉罐上，螺旋送粉器上端连接马达，通过马达的转速来控制粉料下落的速度从而达到控制粉料挥发的速率。送气管道分为进气区、...
该专利属于西北工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过西北工业大学授权不得商用。

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