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本实用新型涉及一种CMP后清洗生产线，包括搬运机器人；设置在搬运机器人四周的若干个CMP加工设备和CMP后清洗装置；位于CMP加工设备后端的预清洗机构，用于对CMP加工设备加工出来的wafer进行预清洗，并将预清洗后的多个wafer存放在硅...
该专利属于若名芯半导体科技(苏州)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过若名芯半导体科技(苏州)有限公司授权不得商用。

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